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Plasma모니터링

• High Resolution 분광기를 사용하여 플라즈마로부터의 optical emission을 모니터 합니다.

• 플라즈마의 스펙트럼은 각 특성에 따른 emission peak 를 가지고 있고, 각각은 플라즈마 내의 원자의 변화를 감지할 수 있어서 한 레이어에서 다른 레이어로 etch가 전환되는 시점을 모니터 할 수 있습니다.

• 또한 chamber 내에서 발생되는 실시간 모니터링을 통해 유용한 정보를 제공하여 처리 환경에 대한 전체적인 파악과 함께 잠재적인 문제에 대한 사전 확인 또한 가능합니다.

• OES 원리를 이용하여 플라즈마를 모니터링 하고, 사용자가 원하는 endpoint 시점을 실시간으로 모니터링하여 Etching을 멈출 시점을 정할 수 있습니다.

• Plasma Process Monitoring

- Detect any changes or fault in a plasma process
- Stability without change

Real Time Measure Repeatability

넓은 스펙트럼의 Plasma emission 을 반복적으로 실시간 측정하여 plasma process 에 대한 전체적인 파악이 빠르게 가능

High Resolution, High Speed, High Sensitivity Spectrometer

고해상도 분광기 사용을 통해 정확하고 신뢰도 높은 측정 결과값과 넓은 스펙트럼 데이터를 빠르게 획득

Customized Optical Products

Customize 를 통해 해당 시스템에 최적화된 장비 구성을 진행하여 안정성이 높은 시스템 구축

Software

Plasma 분석에서부터 측정 데이터의 databases 생성 등 plasma process 제어 및 모니터링에 필요한 맞춤형 소프트웨어 제작 가능