Ứng dụng
Details
• Etching, Deposition, Optical Endpoint Detection 등과 같은 반도체 공정에 활용 가능한 어플리케이션
• 반도체 공정의 실시간 모니터링 및 제어를 위한 optical emission 분광기 제공 가능
Features
• Real time 측정 가능
• Endpoint 탐지 등을 위한 유연한 설정
• 프로세스 환경에서 안정적인 성능을 위한 높은 안정성
• 방출 선의 파장은 플라즈마에 존재하는 원소를 식별하며, 방출 선 강도는 공정 제어를 위해 실시간으로 입자 및 전자 밀도를 정량화 하는 데 사용